本製品の接液部は日本ピラー社のスーパー300タイプピラー継手とピラフロン管で構成され、半導体製造用レベルの超高純度の溶液の充填に使用できます。また、装置の気相接触可能部分から徹底的に金属を排除し、濃塩酸、濃硝酸、濃弗酸などに耐えられる高い耐食性を持っています。このモデルでは、4種類の溶液を一台の装置で小分け作業できますが、装置は非常にコンパクトな為、スペースが限られているクリーンルーム内のレイアウトの自由度も高くなります。
外観と仕様
半導体製造用薬品や溶液は、不純物のコンタミを徹底的に排除するなどの様々な要求条件があるため、クリーンルーム内で、昔ながらのシンプルな装置で充填している場合が多いのが現状です。しかし充填する溶液は、濃塩酸、濃硝酸、濃弗酸などの非常に高い腐食性や毒性のある溶液であるため、充填中に発生する気化ガスの高効率の除去や、ミスが発生し難い操作系による高タクトな作業など、充填機側で改善できる点も多いです。
本製品は、その様な問題点を解決するための装置として設計されました。クリーンルーム内での半導体製造用の超高純度薬品の充填用に最適化されています。装置内の接液部は、日本ピラー社の高純度フッ素樹脂配管(ピラフロン管)・スーパー300シリーズ継手を使用し、接液部からのコンタミの可能性を徹底的に排除しています。また、配管取り回しも、純度だけでなく製品の検査も考慮した配管・取り回しになっています。
充填する高い腐食性溶液から発生する腐食性ガスは、特殊なダクト構造により高効率で吸引排出され、クリーンルーム内への腐食性ガスの放出を強く低減させます。また、装置の気相接触可能部分からは、金属を徹底的に排除し、耐腐食性の高い塩ビやフッ素樹脂・フッ素ゴムを使用する事により、装置の腐食を防止しています(秤を除く)。その為、装置の架台や外装板は、強度を計算して作製された完全塩ビ製です。
また上記の写真のモデルでは、最大4種類の溶液の充填が出来る仕様になっています。装置内で3種類の充填ノズル、装置外に1ノズルが装備されています。一般的にクリーンルームのスペースは限られていますので、1台の充填機で4種類の溶液の充填が出来ると、充填ラインが整理できコンパクトになり、クリーンルーム内の機器の配置の自由度が高くなるというメリットもあります。
本装置の情報は順次掲載して行きますので、また当HPへご来訪ください。
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